"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面，在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。
本书共分为六章，其中，第一章为绪论，介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型，以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台，除此之外，还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术，列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电子发射在带电状态下的动态特性。第五部分简要叙述了电子轰击对材料的影响。第六部分讲述了二次电子发射在微波部件微放电和电子显微成像领域的应用，并展开了一些分析。
本书面向物理学、物理电子学和计算物理学等专业的本科生或研究生，以及从事等离子体、微波大功率放电和表面微分析等领域的研究人员，除此之外，本书提供了大量的材料基础数据，还可为相关工程设计领域的工程师提供参考和借鉴。
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