本书分为十章：第一章是绪论部分，第二章是基本理论及计算方法，第三章是少层石墨烯的等离激元的TDDFT研究，第四章是少层氮掺杂石墨烯等离激元研究，第五章是掺杂石墨烯纳米结构等离激元的第一性原理研究，第六章是氮掺杂石墨烯与贵金属薄层复合结构的等离激元研究，第七章是锑烯纳米结构等离激元的第一性原理研究，第八章是单层H-Si-P半导体：结构稳定性、电子结构、光学性质和光催化水分解的前景研究，第九章是CXCY区块：结构稳定性、电子结构、光学性质及光催化分解水的前景研究，第十章是全文总结与展望。

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