本书内容以脆性光学元件原子级超光滑加工为应用背景，提出了脆性光学元件弹性域超光滑加工方法，对光学材料弹性域去除机理展开了全面深入的研究。书稿具有较高的学术价值，作者的研究方法，过程和结果对同行业研究者具有借鉴意义和参考价值，是一部值得出版的学术著作。随着光学和微电子学领域及其相关学科的发展对超光滑表面的需求量越来越大，同时加工要求也越来越高，不但要求达到原子级的超光滑表面，同时要求加工表面具有优良的完整性。为满足现代科技发展对超光滑表面提出的严格要求，本书针对光学元件的弹性域去除机理展开全面系统的研究，探索如何获取原子级超光滑表面。本书研究可为流体动压超光滑加工在实际应用中的推广奠定基础。

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